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CD-SEM 关键尺寸量测
CD-SEM 关键尺寸量测

应用场景

二&三代半导体、硅基显示、滤波器、光通讯等器件，显影/刻蚀/剥离等半导体工艺后图形之关键尺寸测量。

产品优势

  • 快速量测：高速高精度，多元模式量测
  • 高自动化：自动对焦、测量和数据分析
  • 离线分析：可离线测量储存图像
  • 自主研发：70%以上国产 parts
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项目 技术参数
晶圆尺寸 4/6/8/12 inch
量测范围 60nm~10um
放大倍率 1000-300Kx
分辨率 2nm@0.8kV
静态量测精确性 1% or ≤ 2nm
动态量测精确性 1.2% or ≤ 3nm
材质 Si/SiC/GaAs/GaN/InP/Glass/Sapphire etc.

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0512-63372330
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